127mm × 127mm Kuarsa Photomask Substrat Untuk Penggunaan FPD
Aplikasi
Bidang proses fotolitografi, seperti pembuatan chip sirkuit terpadu, FPD (Flat Panel Display),
MEMS (Sistem Elektro Mekanik Mikro), dll.
Prinsip bekerja
Mask adalah topeng master grafis yang biasa digunakan dalam fotolitografi fabrikasi mikro-nano.Struktur grafis
dibentuk pada substrat transparan oleh photomask buram, dan kemudian informasi grafik ditransfer ke
substrat produk melalui proses pemaparan.
Fitur
Photomask Substrat untuk penggunaan FPD
| Model / Bahan | Ukuran | Kapasitas Pemrosesan |
| 5 inci / Kuarsa | 127mm × 127mm | Penggilingan, Poles, Pelapisan Chrome, Perekatan |
Alur Proses
→ Deteksi bahan baku;
→ Penggilingan kasar;
→ Pemolesan kasar;
→ Pembersihan topeng;
→ Inspeksi kinerja bahan baku;
→ Disepuh oleh krom;
→ Pengujian kinerja topeng;
→ Lapisan photoresist;
→ Pengemasan;
→ Mengangkut.
Keuntungan kita
Kami adalah produsen.
Proses dewasa.
Balas dalam 24 jam kerja.
Sertifikasi ISO kami
Bagian Dari Paten Kami
Bagian Dari Penghargaan dan Kualifikasi R&D Kami
Produk kami dijual di seluruh dunia. Anda dapat yakin dengan seluruh proses produk kami.
