6×6×0.12 Inci MEMS Chrome Photomask Substrat Photoresist Coating

6 inci × 6 inci × 0,12 inci Kuarsa Photomask Substrat Untuk Penggunaan Chip

Aplikasi

Bidang proses fotolitografi, seperti pembuatan chip sirkuit terpadu, FPD (Flat Panel Display),

MEMS (Sistem Elektro Mekanik Mikro), dll.

Prinsip bekerja

Mask adalah topeng master grafis yang biasa digunakan dalam fotolitografi fabrikasi mikro-nano.Struktur grafis

dibentuk pada substrat transparan oleh photomask buram, dan kemudian informasi grafik ditransfer ke

substrat produk melalui proses pemaparan.

Fitur

                                                        Substrat Photomask Untuk Penggunaan Chip

Alur Proses

→ Deteksi bahan baku;

→ Penggilingan kasar;

→ Pemolesan kasar;

→ Pembersihan topeng;

→ Inspeksi kinerja bahan baku;

→ Disepuh oleh krom;

→ Pengujian kinerja topeng;

→ Lapisan photoresist;

→ Pengemasan;

→ Mengangkut.

Keuntungan kita

Kami adalah produsen.

Proses dewasa.

Balas dalam 24 jam kerja.

Sertifikasi ISO kami

Bagian Dari Paten Kami

Bagian Dari Penghargaan dan Kualifikasi R&D Kami