Deposisi Sputtering Magnetron di Bidang Lapisan Dekoratif
Aplikasi
| Aplikasi | Tujuan spesifik | jenis bahan |
| Lapisan dekoratif | Film berwarna, film metalisasi | Al2HAI3, TiO2, dan semua jenis film metal |
Prinsip bekerja
Sputtering magnetron adalah untuk meningkatkan laju sputtering dengan memperkenalkan medan magnet pada permukaan target dan menggunakan
medan magnet untuk membatasi partikel bermuatan untuk meningkatkan densitas plasma.
Fitur
| Model | MSC-DC-X—X |
| Jenis pelapis | Berbagai film dielektrik seperti film logam, oksida logam dan AIN |
| Kisaran suhu lapisan | Suhu normal hingga 500 ℃ |
| Lapisan ukuran ruang vakum | 700mm * 750mm * 700mm (Dapat Disesuaikan) |
| Vakum latar belakang | <5×10-7mbar |
| Ketebalan lapisan | ≥ 10nm |
| Presisi kontrol ketebalan | ≤ ±3% |
| Ukuran lapisan maksimum | ≥ 100mm (Dapat Disesuaikan) |
| keseragaman ketebalan film | ≤ ±0,5% |
| Pembawa substrat | Dengan mekanisme rotasi planet |
| Bahan sasaran | 4×4 inci (kompatibel dengan 4 inci ke bawah) |
| Sumber Daya listrik | Catu daya seperti DC, pulsa, RF, JIKA, dan bias adalah opsional |
| Gas proses | Ar, N2, O2 |
| Catatan: Tersedia produksi yang disesuaikan. | |
Sampel Pelapisan
Langkah Proses
→ Tempatkan substrat untuk pelapisan ke dalam ruang vakum;
→ Vakum secara kasar;
→ Nyalakan pompa molekuler, vakum dengan kecepatan tinggi, lalu nyalakan revolusi dan rotasi;
→ Memanaskan ruang vakum hingga suhu mencapai target;
→ Terapkan kontrol suhu konstan;
→ Bersihkan elemen;
→ Berputar dan kembali ke asal;
→ Lapisan film sesuai dengan persyaratan proses;
→ Turunkan suhu dan hentikan rakitan pompa setelah pelapisan;
→ Berhenti bekerja saat operasi otomatis selesai.
Keuntungan kita
Kami adalah produsen.
Proses dewasa.
Balas dalam 24 jam kerja.
Sertifikasi ISO kami
Bagian Dari Paten Kami
Bagian Dari Penghargaan dan Kualifikasi R&D Kami
Produk kami dijual di seluruh dunia. Anda dapat yakin dengan seluruh proses produk kami.
