Mengirim pesan
ZEIT Group 86-28-62156220-810 hua.du@zeit-group.com
Superhard Film Magnetron Sputtering Deposition System In Functional Film Field

Sistem Deposisi Sputtering Magnetron Film Superhard Di Bidang Film Fungsional

  • Cahaya Tinggi

    Deposisi Sputtering Magnetron Bidang Film Fungsional

    ,

    Sistem sputtering magnetron film Superhard

    ,

    Sistem sputtering magnetron Film Fungsional

  • Bobot
    Dapat disesuaikan
  • Ukuran
    Dapat disesuaikan
  • Dapat disesuaikan
    tersedia
  • Masa garansi
    1 tahun atau kasus per kasus
  • Ketentuan pengiriman
    Melalui Transportasi Laut / Udara / Multimoda
  • Tempat asal
    Chengdu, PRCHINA
  • Nama merek
    ZEIT
  • Sertifikasi
    Case by case
  • Nomor model
    MSC-FF-X—X
  • Kuantitas min Order
    1 set
  • Harga
    Case by case
  • Kemasan rincian
    kotak kayu
  • Waktu pengiriman
    Kasus per kasus
  • Syarat-syarat pembayaran
    T/T
  • Menyediakan kemampuan
    Kasus per kasus

Sistem Deposisi Sputtering Magnetron Film Superhard Di Bidang Film Fungsional

Deposisi Sputtering Magnetron di Bidang Film Fungsional

 

 

Aplikasi

    Aplikasi     Tujuan spesifik     jenis bahan
    Film fungsional     Film super keras     TiN, TiC

    Film tahan cahaya

    Cr, AlSi, AlTi, dll
    Film resistif       NiCrSi, CrSi, MoTa, dll
   Film superkonduktor       YbaCuO, BiSrCaCuo
      film magnetik     Fe, Co, Ni, FeMn, FeNi, dll

 

Prinsip bekerja

Ada banyak jenis sputtering magnetron dengan prinsip kerja dan objek aplikasi yang berbeda.Tapi disana

adalah satu kesamaan: itu membuat elektron berjalan di jalur spiral di dekat permukaan target melalui interaksi antara

medan magnet dan listrik, sehingga meningkatkan kemungkinan menghasilkan ion yang dihasilkan dari elektron yang mengenai argon.

Ion yang dihasilkan kemudian mengenai permukaan target di bawah aksi medan listrik dan memuntahkan bahan target.

 

Fitur

  Model   MSC-FF-X—X
  Jenis pelapis   Berbagai film dielektrik seperti film logam, oksida logam dan AIN
  Kisaran suhu lapisan   Suhu normal hingga 500 ℃
  Lapisan ukuran ruang vakum   700mm * 750mm * 700mm (Dapat Disesuaikan)
  Vakum latar belakang   <5×10-7mbar
 Ketebalan lapisan   ≥ 10nm
 Presisi kontrol ketebalan   ≤ ±3%
  Ukuran lapisan maksimum  ≥ 100mm (Dapat Disesuaikan)
  keseragaman ketebalan film  ≤ ±0,5%
  Pembawa substrat   Dengan mekanisme rotasi planet
  Bahan sasaran  4×4 inci (kompatibel dengan 4 inci ke bawah)
  Sumber Daya listrik   Catu daya seperti DC, pulsa, RF, JIKA, dan bias adalah opsional
 Gas proses   Ar, N2, O2
  Catatan: Produksi yang disesuaikan tersedia.

                                                                                                                

Sampel Pelapisan

Sistem Deposisi Sputtering Magnetron Film Superhard Di Bidang Film Fungsional 0

 

Langkah Proses

→ Tempatkan substrat untuk pelapisan ke dalam ruang vakum;

→ Vakum secara kasar;

→ Nyalakan pompa molekuler, vakumdengan kecepatan tinggi, lalu nyalakan revolusi dan rotasi;

→ Memanaskan ruang vakum hingga suhu mencapaitarget;

→ Terapkan kontrol suhu konstan;

→ Bersihkan elemen;

→ Berputar dan kembali ke asal;

→ Lapisan film sesuai dengan persyaratan proses;

→ Turunkan suhu dan hentikan rakitan pompa setelah pelapisan;

→ Berhenti bekerja kapanoperasi otomatis selesai.

 

Keuntungan kita

Kami adalah produsen.

Proses dewasa.

Balas dalam 24 jam kerja.

 

Sertifikasi ISO kami

Sistem Deposisi Sputtering Magnetron Film Superhard Di Bidang Film Fungsional 1

 

 

Bagian Dari Paten Kami

Sistem Deposisi Sputtering Magnetron Film Superhard Di Bidang Film Fungsional 2Sistem Deposisi Sputtering Magnetron Film Superhard Di Bidang Film Fungsional 3

 

 

Bagian Dari Penghargaan dan Kualifikasi R&D Kami

Sistem Deposisi Sputtering Magnetron Film Superhard Di Bidang Film Fungsional 4Sistem Deposisi Sputtering Magnetron Film Superhard Di Bidang Film Fungsional 5